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P800→P900→P910i→P990i→P1i
庆：辛亥革命108周年
1911年：中国湖北省武昌革命组织文学社和共进会发动武昌起义，推翻清朝政府的辛亥革命爆发；因中国各地革命行动成功，孙中山回中国肇建了中华民国，形成孙中山领导的南京政府及清朝袁世凯的北京政府南北对峙，直到袁世凯翌年逼清帝退位，中华民国始取代清朝。
说实话，对Miyako这种类型的女生完全没有抵抗力……与外表相衬的安静、甜美性格，不服输抑或是坚强的内心，不做作，不轻浮。从略微冰山到小鸟依人。可惜这样的女生在现实中并没有多少吧……即便如此，我依旧选择努力做一个在现实中能配上这样的女生的人。只因你若盛开，蝴蝶自来。
来自网易云音乐的评论
图片上传测试
由于原时光机抽风，暂时先让之前的tweets不见于光日一段时间吧。。。
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欢迎你来到「时光机」栏目。在这里你可以记录你的日常和心情。而且，首页的“闲言碎语”栏目会显示最新的三条动态! 这是默认的第一条说说，当你发布第一条说说，刷新页面后，该条动态会自动消失。
chrome插件测试
玄隐的路铺成了。。
2019 Surface 发布会,amazing!
What's going on?
底层人士最不值钱的三样东西：
1⃣️ 时间2⃣️ 人脉3⃣️ 隐私
为了一点点蝇头小利，他们可以轻易出卖这三样东西。
https://weibo.com/1954341553/I3hOYg5Nv
当公权力因为不喜欢某人的某条言论，而把某人送进监狱时，我们都应该发声，说出这条言论，后面加上一句「有本事你们把我送去监狱啊」
发声的人少那当然是徒劳的，只要人一多。
https://zhuanlan.zhihu.com/p/84422646
天神咲夜友人葵，乖巧佐奈琉璃凶猫舌灯里濑奈美，傲娇静流日向萌重义麻夜教师茧，抖M 美羽loli 梓纯真莉音工ロ娜，桃色夏莉与爱莉全能夕音真咲棒，元气因幡男装䌷温柔憧子小和奏，柊史宁宁天一对!!!芳乃穗织巫女姬，将臣断刀婚约立忍者茉子丛雨酱，直率蕾娜芦花春人气绫濑家里蹲，怕生七海中二妹沉稳茉优爱撒娇，直率羽月大家靠先有柚子后有天，我们柚厨战破天!!!
——来自一位柚子厨
10年前我们觉得65nm工艺是极限，因为到了65nm节点二氧化硅绝缘层漏电已经不可容忍。所以工业界搞出了HKMG，用high-k介质取代了二氧化硅，传统的多晶硅-二氧化硅-单晶硅结构变成了金属-highK-单晶硅结构。
5年前我们觉得22nm工艺是极限，因为到了22nm沟道关断漏电已经不可容忍。所以工业界搞出了finfet和FD-SOI，前者用立体结构取代平面器件来加强栅极的控制能力，后者用氧化埋层来减小漏电。
现在我们觉得7nm工艺是极限，因为到了7nm节点即使是finfet也不足以在保证性能的同时抑制漏电。所以工业界用砷化铟镓取代了单晶硅沟道来提高器件性能。
https://zh.wikipedia.org/wiki/User:%E8%9B%A4%E4%B8%9D/%E7%BB%B4%E5%9F%BA%E8%86%9C%E6%B3%95%E5%B8%88%E5%8D%8F%E4%BC%9A
人生，最怕的就是纠结、犹豫后，还是无休止的犹豫。 其实，想过最差的结果自己是否可以接受，如果可以，那就试试看。因为试了才有机会成功。不试就永远一成不变。 如果连个决定都做不了，那也太对不起自己的青春。
来自：执证塔罗分析师，事业、感情、财运、生活，一对一...
三尺微命，一介书生。Live in the hex.
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庆：辛亥革命108周年
1911年：中国湖北省武昌革命组织文学社和共进会发动武昌起义，推翻清朝政府的辛亥革命爆发；因中国各地革命行动成功，孙中山回中国肇建了中华民国，形成孙中山领导的南京政府及清朝袁世凯的北京政府南北对峙，直到袁世凯翌年逼清帝退位，中华民国始取代清朝。
说实话，对Miyako这种类型的女生完全没有抵抗力……与外表相衬的安静、甜美性格，不服输抑或是坚强的内心，不做作，不轻浮。从略微冰山到小鸟依人。可惜这样的女生在现实中并没有多少吧……即便如此，我依旧选择努力做一个在现实中能配上这样的女生的人。只因你若盛开，蝴蝶自来。
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当公权力因为不喜欢某人的某条言论，而把某人送进监狱时，我们都应该发声，说出这条言论，后面加上一句「有本事你们把我送去监狱啊」
发声的人少那当然是徒劳的，只要人一多。
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天神咲夜友人葵，乖巧佐奈琉璃凶
猫舌灯里濑奈美，傲娇静流日向萌
重义麻夜教师茧，抖M 美羽loli 梓
纯真莉音工ロ娜，桃色夏莉与爱莉
全能夕音真咲棒，元气因幡男装䌷
温柔憧子小和奏，柊史宁宁天一对!!!
芳乃穗织巫女姬，将臣断刀婚约立
忍者茉子丛雨酱，直率蕾娜芦花春
人气绫濑家里蹲，怕生七海中二妹
沉稳茉优爱撒娇，直率羽月大家靠
先有柚子后有天，我们柚厨战破天!!!
——来自一位柚子厨
10年前我们觉得65nm工艺是极限，因为到了65nm节点二氧化硅绝缘层漏电已经不可容忍。所以工业界搞出了HKMG，用high-k介质取代了二氧化硅，传统的多晶硅-二氧化硅-单晶硅结构变成了金属-highK-单晶硅结构。
5年前我们觉得22nm工艺是极限，因为到了22nm沟道关断漏电已经不可容忍。所以工业界搞出了finfet和FD-SOI，前者用立体结构取代平面器件来加强栅极的控制能力，后者用氧化埋层来减小漏电。
现在我们觉得7nm工艺是极限，因为到了7nm节点即使是finfet也不足以在保证性能的同时抑制漏电。所以工业界用砷化铟镓取代了单晶硅沟道来提高器件性能。
https://zh.wikipedia.org/wiki/User:%E8%9B%A4%E4%B8%9D/%E7%BB%B4%E5%9F%BA%E8%86%9C%E6%B3%95%E5%B8%88%E5%8D%8F%E4%BC%9A
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